国际简称:IEEE T PLASMA SCI 参考译名:IEEE Transactions On Plasma Science
主要研究方向:物理:流体与等离子体-物理 非预警期刊 审稿周期: 约3.7个月
《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的以物理:流体与等离子体-物理为研究特色的国际期刊,发表该领域相关的原创研究文章、评论文章和综述文章,及时报道该领域相关理论、实践和应用学科的最新发现,旨在促进该学科领域科学信息的快速交流。该期刊是一本未开放期刊,近三年没有被列入预警名单。
The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指数 | ||||||||||||
3 | 0.417 | 0.861 |
|
名词解释:CiteScore 是衡量期刊所发表文献的平均受引用次数,是在 Scopus 中衡量期刊影响力的另一个指标。当年CiteScore 的计算依据是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。例如,2022年的 CiteScore 计算方法为:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的对2019-2022年发表的文件的引用数量÷2019-2022年发布的文献数量 注:文献类型包括:文章、评论、会议论文、书籍章节和数据论文。
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理 | 4区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25% |
Author: Xu, Qianglin; Song, Zhiquan; Li, Hua; Xu, Meng; Zhang, Xining; Li, Zhenhan
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.1109/TPS.2023.3265082
Author: Zhang, Lijing; Sheng, Gehao; Hou, Huijuan; Zhou, Nan; Song, Hui; Jiang, Xiuchen
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 15-25. DOI: 10.1109/TPS.2022.3224914
Author: Jin, ShaoHui; Nie, LanLan; Liu, DaWei; Lu, XinPei
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 60-65. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225319
Author: Huang, Qili; Sun, Dimin; Hu, Linlin; Zhuo, Tingting; Hu, Peng; Jiang, Yi; Zhang, Luqi; Hu, Xinrui; Ma, Guowu; Chen, Hongbin; Jin, Xiao
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 77-82. DOI: 10.1109/TPS.2022.3226179
Author: Zang, Yinxiang; Jia, Min; Zhang, Zhibo; Cui, Wei
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 127-139. DOI: 10.1109/TPS.2022.3227016
Author: Wang, Xu-Cheng; Gao, Shu-Han; Zhang, Yuan-Tao
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 49-59. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225240
Author: Jiang, Song; Li, Ang; Wang, Yonggang; Li, Zi; Rao, Junfeng; Wu, Zhonghang
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 177-183. DOI: 10.1109/TPS.2022.3225929
Author: Zhou, Lin; Ye, Mingtian; Lu, Jian; Meng, Shijian; Ye, Fan; Jiang, Shuqing; Yi, Qiang; Yan, Xiaosong; Yang, Ruihua; Li, Zhenghong
Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2023; Vol. 51, Issue 1, pp. 193-198. DOI: 10.1109/TPS.2022.3227331
Epl
中科院 4区 JCR Q2
Japanese Journal Of Applied Physics
中科院 4区 JCR Q3
Infrared Physics & Technology
中科院 3区 JCR Q2
Optics Express
中科院 2区 JCR Q2
Journal Of Nonlinear Mathematical Physics
中科院 4区 JCR Q2
Journal Of Low Temperature Physics
中科院 3区 JCR Q4
Photonics
中科院 4区 JCR Q2
Chinese Physics Letters
中科院 2区 JCR Q1
若用户需要出版服务,请联系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。