Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing SCIE

国际简称：IEEE T SEMICONDUCT M 参考译名：半导体制造的IEEE交易

主要研究方向：工程技术-工程：电子与电气非预警期刊审稿周期：约6.0个月

《半导体制造的IEEE交易》(Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的以工程技术-工程：电子与电气为研究特色的国际期刊，发表该领域相关的原创研究文章、评论文章和综述文章，及时报道该领域相关理论、实践和应用学科的最新发现，旨在促进该学科领域科学信息的快速交流。该期刊是一本未开放期刊，近三年没有被列入预警名单。

3区中科院分区
Q2 JCR分区
74 年发文量
2.3 IF影响因子
未开放 是否OA
59 H-index
1988 创刊年份
Quarterly 出版周期
English 出版语言

The IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing addresses the challenging problems of manufacturing complex microelectronic components, especially very large scale integrated circuits (VLSI). Manufacturing these products requires precision micropatterning, precise control of materials properties, ultraclean work environments, and complex interactions of chemical, physical, electrical and mechanical processes.

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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing期刊信息

ISSN：0894-6507
出版语言：English
是否OA：未开放
E-ISSN：1558-2345
出版地区：UNITED STATES
是否预警：否
出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期：Quarterly
创刊时间：1988
开源占比：0.106
Gold OA文章占比：4.67%
OA被引用占比：0
出版国人文章占比：0.13
出版撤稿占比：0
研究类文章占比：97.30%

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing CiteScore评价数据（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指数

5.2

0.967

1.237

学科类别	分区	排名	百分位
大类：Engineering 小类：Industrial and Manufacturing Engineering	Q2	114 / 384	70%
大类：Engineering 小类：Condensed Matter Physics	Q2	131 / 434	69%
大类：Engineering 小类：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q2	89 / 284	68%
大类：Engineering 小类：Electrical and Electronic Engineering	Q2	250 / 797	68%

名词解释：CiteScore 是衡量期刊所发表文献的平均受引用次数，是在 Scopus 中衡量期刊影响力的另一个指标。当年CiteScore 的计算依据是期刊最近4年（含计算年度）的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。例如，2022年的 CiteScore 计算方法为：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的对2019-2022年发表的文件的引用数量÷2019-2022年发布的文献数量注：文献类型包括：文章、评论、会议论文、书籍章节和数据论文。

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing中科院评价数据

中科院 2023年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	3区	PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造	3区 3区 4区 4区

中科院 2022年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	4区	PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 4区 4区 4区

中科院 2021年12月旧的升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	3区	PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 4区 4区 4区

中科院 2021年12月基础版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	4区	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理	4区 4区 4区 4区

中科院 2021年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	3区	PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 4区 4区 4区

中科院 2020年12月旧的升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	3区	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理：凝聚态物理 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程：制造	3区 3区 3区 4区

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing JCR评价数据（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q2	175 / 352	50.4%
学科：ENGINEERING, MANUFACTURING	SCIE	Q3	41 / 68	40.4%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	100 / 179	44.4%
学科：PHYSICS, CONDENSED MATTER	SCIE	Q3	45 / 79	43.7%

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	183 / 354	48.45%
学科：ENGINEERING, MANUFACTURING	SCIE	Q3	35 / 68	49.26%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	92 / 179	48.88%
学科：PHYSICS, CONDENSED MATTER	SCIE	Q2	33 / 79	58.86%

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing历年数据统计

影响因子

中科院分区

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing中国学者发文选摘

1、Improvement of Rough Interface Between Barrier/Seed Layer and Porous Ultralow k Film for 28nm Technological Node and Beyond
Author: jdzhm

Journal: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, 2016.