国际简称:J PLASMA PHYS 参考译名:等离子体物理学杂志
主要研究方向:物理-物理:流体与等离子体 非预警期刊 审稿周期: 较慢,6-12周
《等离子体物理学杂志》(Journal Of Plasma Physics)是一本由Cambridge University Press出版的以物理-物理:流体与等离子体为研究特色的国际期刊,发表该领域相关的原创研究文章、评论文章和综述文章,及时报道该领域相关理论、实践和应用学科的最新发现,旨在促进该学科领域科学信息的快速交流。该期刊是一本未开放期刊,近三年没有被列入预警名单。
JPP aspires to be the intellectual home of those who think of plasma physics as a fundamental discipline. The journal focuses on publishing research on laboratory plasmas (including magnetically confined and inertial fusion plasmas), space physics and plasma astrophysics that takes advantage of the rapid ongoing progress in instrumentation and computing to advance fundamental understanding of multiscale plasma physics. The Journal welcomes submissions of analytical, numerical, observational and experimental work: both original research and tutorial- or review-style papers, as well as proposals for its Lecture Notes series.
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指数 | ||||||||
3.5 | 0.91 | 1.066 |
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名词解释:CiteScore 是衡量期刊所发表文献的平均受引用次数,是在 Scopus 中衡量期刊影响力的另一个指标。当年CiteScore 的计算依据是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。例如,2022年的 CiteScore 计算方法为:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的对2019-2022年发表的文件的引用数量÷2019-2022年发布的文献数量 注:文献类型包括:文章、评论、会议论文、书籍章节和数据论文。
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 2区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 3区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 3区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 3区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 3区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 3区 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 19 / 40 |
53.8% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.25% |
Author: Miao, Yang; Hu, Jian-Sheng; Fu, Chao; Wang, Yang; Khrapak, Sergey A.; Zhong, Fang-Chuan; Du, Cheng-Ran
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 89, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1017/S0022377823000260
Author: Yang, Jixing; Fu, Guoyong; Shen, Wei; Ye, MinYou
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 89, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1017/S0022377822001052
Author: Song, H. H.; Shen, B.; Yuan, Q. P.; Guo, B. H.; Wang, Y. H.; Chen, D. L.; Zhang, R. R.; Xiao, B. J.
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 89, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1017/S0022377822001015
Author: Li, Xueming; Chao, Yue; Liu, Deji; Zhang, Shutong; Liu, Zhanjun; Cao, Lihua; Zheng, Chunyang
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 89, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1017/S0022377823000132
Author: Zhang, Heng; Chen, Yu-Xi; Wei, Lin; Wang, Fang-Ping; Zhang, Wei-Ping; Duan, Wen-Shan
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 89, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1017/S0022377823000296
Author: heheli
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS, 2016.
Author: heheli
Journal: JOURNAL OF PLASMA PHYSICS, 2016.
Epl
中科院 4区 JCR Q2
Japanese Journal Of Applied Physics
中科院 4区 JCR Q3
Journal Of Nonlinear Mathematical Physics
中科院 4区 JCR Q2
Optics Express
中科院 2区 JCR Q2
Journal Of Low Temperature Physics
中科院 3区 JCR Q4
Photonics
中科院 4区 JCR Q2
Journal Of Optical Technology
中科院 4区 JCR Q4
Optics And Laser Technology
中科院 2区 JCR Q1
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