Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

国际简称：J VAC SCI TECHNOL A 参考译名：真空科学与技术学报

主要研究方向：材料科学：膜-工程技术非预警期刊审稿周期：一般,3-6周

《真空科学与技术学报》(Journal Of Vacuum Science & Technology A)是一本由AVS Science and Technology Society出版的以材料科学：膜-工程技术为研究特色的国际期刊，发表该领域相关的原创研究文章、评论文章和综述文章，及时报道该领域相关理论、实践和应用学科的最新发现，旨在促进该学科领域科学信息的快速交流。该期刊是一本未开放期刊，近三年没有被列入预警名单。

3区中科院分区
Q3 JCR分区
333 年发文量
2.4 IF影响因子
未开放 是否OA
100 H-index
1983 创刊年份
Bimonthly 出版周期
English 出版语言

Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.

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Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊信息

ISSN：0734-2101
出版语言：English
是否OA：未开放
E-ISSN：1520-8559
出版地区：UNITED STATES
是否预警：否
出版商：AVS Science and Technology Society
出版周期：Bimonthly
创刊时间：1983
开源占比：0.2737
Gold OA文章占比：27.03%
OA被引用占比：0.2168...
出版国人文章占比：0.03
出版撤稿占比：0
研究类文章占比：97.60%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore评价数据（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指数

5.1

0.569

0.957

学科类别	分区	排名	百分位
大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics	Q2	135 / 434	69%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces and Interfaces	Q2	19 / 57	67%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces, Coatings and Films	Q2	45 / 132	66%

名词解释：CiteScore 是衡量期刊所发表文献的平均受引用次数，是在 Scopus 中衡量期刊影响力的另一个指标。当年CiteScore 的计算依据是期刊最近4年（含计算年度）的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。例如，2022年的 CiteScore 计算方法为：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的对2019-2022年发表的文件的引用数量÷2019-2022年发布的文献数量注：文献类型包括：文章、评论、会议论文、书籍章节和数据论文。

Journal Of Vacuum Science & Technology A中科院评价数据

中科院 2023年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	材料科学	3区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 3区

中科院 2022年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	材料科学	2区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 3区

中科院 2021年12月旧的升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	材料科学	3区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 3区

中科院 2021年12月基础版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	工程技术	4区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	4区 4区

中科院 2021年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	材料科学	3区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	3区 3区

中科院 2020年12月旧的升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科		小类学科
否	否	材料科学	2区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	2区 3区

Journal Of Vacuum Science & Technology A JCR评价数据（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	13 / 23	45.7%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	96 / 179	46.6%

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	12 / 23	50%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	88 / 179	51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A历年数据统计

影响因子

中科院分区

Journal Of Vacuum Science & Technology A中国学者发文选摘

1、Selectivity dependence of atomic layer deposited manganese oxide on the precursor ligands on platinum facets
Author: Lan, Yuxiao; Wen, Yanwei; Li, Yicheng; Yang, Jiaqiang; Cao, Kun; Shan, Bin; Chen, Rong

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002173
2、Dynamic character of compositional sputter depth profiling by SIMS: A comparison of different models for quantitative profile evaluation
Author: Hofmann, Siegfried; Zhong, Feng-Min; Yang, Hao; Wang, Jiang-Yong; Xu, Cong-Kang

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002233
3、Aluminum nitride crystal-based photodetector with bias polarity-dependent spectral selectivity
Author: Fan, Zelong; Qin, Zuoyan; Jin, Lei; Cao, Yuan; Yue, Zhongyu; Li, Baikui; Wu, Honglei; Sun, Zhenhua

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/5.0133162
4、Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings
Author: Zhang, Xin; Tian, Xiu-bo; Gong, Chun-zhi; Liu, Xiang-li; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002353
5、Enhancement of discharge and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc deposition
Author: Wang, Benfu; Tian, Xiubo; Hu, Jian; Gong, Chunzhi; Liu, Xiangli; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002352
6、Physical properties of Zn-Sn-N films governed by the Zn/(Zn plus Sn) ratio
Author: Ren, JunYan; Liang, LingYan; Liu, Xiaohan; Cao, Hongtao

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002454
7、Method for extracting the intrinsic diffusion coefficient from grain boundary diffusion depth profile
Author: Lian, Songyou; Fourie, Antonie J.; Wang, Jiangyong; Swart, Hendrik C.; Terblans, Jacobus Johannes

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002400
8、Interface-mediated ferroelectricity in PMN-PT/PZT flexible bilayer via pulsed laser deposition
Author: Chen, Rong; Qi, Zilian; Xiong, Yingfei; Li, Yicheng; Zhang, Xiaodong; Cao, Kun

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002386