国际简称:TECH PHYS+ 参考译名:技术物理
主要研究方向:物理-物理:应用 非预警期刊 审稿周期: 一般,3-6周
《技术物理》(Technical Physics)是一本由Pleiades Publishing出版的以物理-物理:应用为研究特色的国际期刊,发表该领域相关的原创研究文章、评论文章和综述文章,及时报道该领域相关理论、实践和应用学科的最新发现,旨在促进该学科领域科学信息的快速交流。该期刊是一本未开放期刊,近三年没有被列入预警名单。
Technical Physics is a journal that contains practical information on all aspects of applied physics, especially instrumentation and measurement techniques. Particular emphasis is put on plasma physics and related fields such as studies of charged particles in electromagnetic fields, synchrotron radiation, electron and ion beams, gas lasers and discharges. Other journal topics are the properties of condensed matter, including semiconductors, superconductors, gases, liquids, and different materials.
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指数 | ||||||||
1.3 | 0.303 | 0.37 |
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名词解释:CiteScore 是衡量期刊所发表文献的平均受引用次数,是在 Scopus 中衡量期刊影响力的另一个指标。当年CiteScore 的计算依据是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。例如,2022年的 CiteScore 计算方法为:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的对2019-2022年发表的文件的引用数量÷2019-2022年发布的文献数量 注:文献类型包括:文章、评论、会议论文、书籍章节和数据论文。
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 | ||
否 | 否 | 物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 170 / 179 |
5.31% |
Author: A. P. Serebrov, A. K. Fomin, A. G. Kharitonov, V. E. Varlamov, A. V. Chechkin
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2013, Vol.58, 1681-1687, DOI:10.1134/s1063784213110224
Author: M. A. Kumakhov, R. I. Tegaev
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2013, Vol.58, 919-922, DOI:10.1134/s1063784213060182
Author: Yu. A. Kovalenko, A. S. Chikhachev
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2013, Vol.58, 770-773, DOI:10.1134/s1063784213050095
Author: E. N. Vasil’ev
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2013, Vol.58, 1420-1425, DOI:10.1134/s1063784213100277
Author: I. I. Shafranyosh, Yu. Yu. Svida, M. I. Sukhoviya, M. I. Shafranyosh, B. F. Minaev, G. V. Baryshnikov, V. A. Minaeva
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2015, Vol.60, 1430-1436, DOI:10.1134/s1063784215100278
Author: chdyuhan
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2016.
Author: xjjiang
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2016.
Author: ksi.mgd
Journal: TECHNICAL PHYSICS, 2016.
Epl
中科院 4区 JCR Q2
Japanese Journal Of Applied Physics
中科院 4区 JCR Q3
Journal Of Nonlinear Mathematical Physics
中科院 4区 JCR Q2
Optics Express
中科院 2区 JCR Q2
Journal Of Low Temperature Physics
中科院 3区 JCR Q4
Photonics
中科院 4区 JCR Q2
Journal Of Optical Technology
中科院 4区 JCR Q4
Optics And Laser Technology
中科院 2区 JCR Q1
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